激光顆粒分布測量儀
產(chǎn)品型號：GSL-1010

1、基本參數(shù)
工作電壓：110-230V/48-63Hz
電流要求：<2A
儀器凈重：41Kg 

激光顆粒分布測量儀
體    積：575x295x253（mm）
說明：使用寬范圍電源供電，電源精度高，抗力強。電源部分具有防浪涌保護裝置，可以有效保護儀器避免感應雷的雷擊。
2、激光
1）波長：λ=650nm，松下紅色激光器。
2）準直系統(tǒng)：本公司自行研制的準直系統(tǒng)，內(nèi)置雙鏡片，在樣品中的光源Ф8mm圓光斑。 3）供電：高精度恒流源供電，提高激光器輸出的穩(wěn)定性。
4）輸出功率：5mW ，光路：平行光束。
5）典型壽命：大于25000小時。
采用半導體激光器，光學參數(shù)穩(wěn)定，抗振動性好，不易損壞，壽命長。
3、 樣品通路
在激光束中樣品的通道長度：8.6mm
粒子與分散液接觸的系統(tǒng)材料：比色皿玻璃（石英玻璃需另行購買）
外置超聲分散儀功率：80W
4、 透鏡
焦距：f=250mm
工作距離：250±1.0mm
固定方式：緊固，單透鏡測量
單透鏡工作方式，出廠前已預先固定完畢，抗振動性好，在測試中無須更換鏡片，
并且無論各種粒度分布的樣品，全部由單一透鏡進行測量，避免了測量誤差。
5、 探測器
元件數(shù)量： 66+8+1
探測器形狀：非對稱、非均勻扇型
對光方式：緊固，出廠前已校準
校    準：見本說明書6、
遮光比測量：單通道10X10mm大面積濃度探測器，可以實時測量被測樣品的濃度，避免
發(fā)生二次散射或者濃度過低的現(xiàn)象。
說明：光電探測器數(shù)量達到74個，使測量結果精度得到了提高，提高了單個光電探測器的受光面積，提高了靈敏度。
6、 光路調(diào)整 
  調(diào)整時間：<10秒鐘
  調(diào)整方式：4象限X-Y軸自動調(diào)整
   鎖緊方式：電機自鎖 
   GSL-1010激光粒度儀內(nèi)置、全自動、四象限光路調(diào)整系統(tǒng)，調(diào)整系統(tǒng)的運行全部由上位機電腦控制，無需人工干預。調(diào)整系統(tǒng)可自動對光路進行精確調(diào)整，有效地避免由于運輸、振動等造成的光路偏移，而導致的測試結果出現(xiàn)偏差等問題的發(fā)生，的提高了測試結果的準確性。
7、 測量
1）典型測量時間：30秒鐘（采樣16000次，不含樣品制備時間）
2）連續(xù)測量的短間隔時間： 0 秒
3）長連續(xù)工作時間：12小時（超過需關機休息1個小時）8、 數(shù)學模型
4）光學模型：密氏理論
5）數(shù)學過程：高精度小二乘解析法/對數(shù)正態(tài)分布/Rosin-Rammler分布
6）測試原理：使用通用的Mie散射理論，符合標準要求。
7）解算方法為：多峰分布，可以真實反映樣品的分布狀態(tài)，同時輔助對數(shù)正態(tài)分布/
   Rosin-Rammler分布以滿足用戶的特殊需求。
9、 輸出
1）測量范圍：0.1-600μm
2）粒度范圍：固定
3） 輸出類型：微分和累積分布表及曲線，給定粒度值的百分含量、給定百分含量的粒度
值、任意輸入粒度值的百分含量、描述顆粒及測試公司的相關信息
4）數(shù)據(jù)存儲：輸出類型的全部及光散射通量密度
5) 報告格式：GSL格式、PDF格式、EXCEL格式、BMP格式等，測量結果多種保存方式，滿足用戶數(shù)據(jù)保存和交流的需求。
10、微量進樣裝置
1) 樣品池容積：40毫升
2) 攪拌電機轉(zhuǎn)速：0~600轉(zhuǎn)/分鐘，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)微量進樣裝置操作簡單、使用樣品量少，容易清洗，特別使用于需要使用乙醇、四氯化碳等特殊介質(zhì)才能可靠分散的樣品測試。攪拌器電機轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)，適合各種比重的樣品。

11、性能
重復性（在一臺儀器之內(nèi)）： <±0.5% (使用標準測試樣品，以D50計算)
復現(xiàn)性（一臺儀器相對與另一臺）：<±0.75%（使用標準測試樣品，以D50計算）
系統(tǒng)誤差：<±1%（使用標準測試樣品，以D50計算）
12、軟件運行環(huán)境： Windows98/xp/7/8
13、計算機接口：USB2.0,采樣速度可以達到460800kb
14、其他： 
電源設計：多重EMI抗干擾設計手段，具有防電磁干擾功能，可提高儀器的抗力，提高測試的準確性，防浪涌（雷擊）功能，可以有效防止感應雷擊對儀器的損害。
內(nèi)置溫、濕度檢測：儀器內(nèi)部設計有溫度、濕度檢測電路，防止由于溫度、濕度不在合適的范 圍，對儀器的測量結果造成影響，同時防止儀器內(nèi)部光學部件發(fā)霉等情況發(fā)生。